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概述
調研大綱

晶圓清洗系統的消費量與下游產業和全球經濟有關,由于未來幾年全球經濟將始終存在一些不確定性,晶圓清洗系統行業的增長率可能會保持如此之快。但可以肯定的是,晶圓清洗系統的市場仍然很有前景。

1、全球晶圓清洗系統市場銷售量

2021年全球晶圓清洗系統市場銷售量為960臺

圖:2021-2026年全球晶圓清洗系統銷售量(單位)及增長率

2021-2026年全球晶圓清洗系統銷售量(單位)及增長率

2、全球晶圓清洗系統市場價格趨勢

圖:2021-2026年世界價格(千美元/單位)趨勢

2021-2026年世界價格(千美元/單位)趨勢

3、技術和機會

微電子元件的低生產成本意味著手機和其他電子設備是生活中不可分割的一部分。此類器件的關鍵是半導體晶片,必須清潔無污染;然而,對這種清潔的需求和該行業的快速擴張可能會對環境產生毀滅性的影響。

半導體元件中污染物的去除

工業需要一種有效和高效的工藝,在不損壞晶片的情況下從半導體元件中去除污染物和雜質——堿、金屬、重金屬、有機污染物、摻雜劑。如果不去除它們,晶片的性能和功能可能會受到影響。

因此,半導體晶片的清潔是電子產品生產中的一個重要階段,預計到2024年將增長到68億美元。使用基于濕化學的清潔技術和蝕刻清潔技術清潔半導體晶片有各種方法,步驟可能包括預擴散清潔、顆粒去除、金屬離子去除、薄膜去除和蝕刻后清潔。

半導體晶片清洗對環境的影響

一種流行的基于濕化學的技術是旋轉晶片蝕刻清潔,它使用化學工藝去除污染物。一次處理一個晶片變得越來越普遍,需要用氫氟酸和臭氧水處理每個晶片。氫氟酸具有高度腐蝕性,可以溶解許多材料,包括玻璃。它也是一種急性毒藥,會立即對肺部和角膜造成不可逆的損傷,并會干擾身體的鈣代謝,導致全身毒性、心臟驟停和死亡。臭氧水具有消毒劑的作用,是一種用途廣泛的強效消毒劑。

使用此類化學物質可能非常危險——如果手動清潔晶圓,則需要兩個人始終在場;不過,值得慶幸的是,這些過程是自動化的,由機器執行。

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