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概述
調研大綱

線柵偏振片(Wire Grid Polarizer,WGP)作為光電子領域的關鍵元件,在現代光學系統中發揮著不可或缺的作用,其獨特的光學特性使其能夠對光的偏振態進行精確控制,廣泛應用于顯示器、相機、投影儀、增強現實(AR)/ 虛擬現實(VR)設備等眾多領域,隨著科技的飛速發展,這些應用領域對高性能線柵偏振片的需求日益增長,推動著線柵偏振片市場不斷擴張和技術持續創新。

線柵偏振片是一種將很窄(亞波長)的金屬條制備在玻璃襯底上或制備在無支撐設備上(波長更長時)的光學元件,其通過衍射光柵原理使透射光成為偏振光。當光線入射到線柵偏振片時,由于金屬條的存在,與金屬條平行方向的電場分量會被強烈反射或吸收,而垂直于金屬條方向的電場分量則能夠順利透過,從而實現對光偏振態的選擇,使透射光成為偏振光。在由金屬層構成的線柵偏振片中,金屬層呈層狀結構一一排列在線柵上。當光線入射至線柵偏振片時,在金屬層的表面自由電子的振蕩作用下,將與線柵平行振動的電場矢量分量的光線幾乎全部反射,而將垂直于線柵的電場矢量分量的光線幾乎全部透過 。線柵周期、線柵寬度和線柵高度等結構參數對其偏振性能有著關鍵影響。例如,線柵周期越小,可實現偏振的波長范圍越窄,但偏振效果可能更優;線柵寬度和高度的變化也會改變金屬條對不同偏振方向光的反射和透射特性。

根據市場調研發現,線柵偏振片的主要生產工藝包括納米壓印及刻蝕等。納米壓印技術是將具有納米級圖案的模板通過壓力或熱壓等方式復制到基底材料上,形成所需的線柵結構。這種工藝具有成本較低、圖形分辨率較高的優勢,能夠實現高精度的線柵制備,已成為納米結構制備的重要技術,通過納米壓印技術制作的線柵偏光片,可將納米金屬圖案集成在顯示基板上,具有集成度高、背光利用率高、耐高溫、輕薄等優勢,在微納器件、集成光學和低功耗需求產品中具有巨大應用前景。?

刻蝕工藝則是通過化學或物理方法去除不需要的材料,從而形成精確的線柵圖案。常見的刻蝕方式有反應離子刻蝕(RIE)、電感耦合等離子體刻蝕(ICP)等。其中,反應離子刻蝕利用等離子體中的活性離子與材料表面發生化學反應,實現材料的去除;電感耦合等離子體刻蝕則通過強耦合的等離子體源產生高密度等離子體,提高刻蝕速率和刻蝕精度。刻蝕工藝的優點是能夠精確控制線柵的尺寸和形狀,適合制作高精度的線柵偏振片,但成本相對較高,且對設備和工藝控制要求嚴格。?

不同生產工藝各有優缺點。納米壓印工藝在大規模生產中具有成本優勢,適合制備大面積、低精度要求的線柵偏振片;而刻蝕工藝雖然成本較高,但能夠實現更高精度的線柵制作,適用于對偏振性能要求苛刻的高端應用領域。在實際生產中,企業通常會根據產品的需求和成本考量,選擇合適的生產工藝或結合多種工藝來制備線柵偏振片。

線柵偏振片的發展歷程伴隨著光學技術和微納加工技術的不斷進步。早期,線柵偏振片由于制備技術的限制,線柵尺寸較大,只能應用于紅外波段,且性能有限。隨著光刻技術的發展,線柵的制備精度得到提高,線柵偏振片開始在一些特定的光學系統中得到應用,但光刻工藝成本高昂,限制了其大規模推廣。?

近年來,納米壓印技術和先進刻蝕技術的出現,為線柵偏振片的發展帶來了新的機遇。納米壓印技術以其低成本、高分辨率的優勢,使得線柵偏振片的制備更加高效和經濟,能夠滿足大規模生產的需求;同時,刻蝕技術的不斷改進,實現了更精細的線柵結構制作,提高了線柵偏振片在可見光和紫外光波段的性能,拓寬了其應用領域。?

隨著增強現實(AR)/ 虛擬現實(VR)、投影儀、平視顯示器等新興領域的快速發展,對高性能線柵偏振片的需求急劇增長,進一步推動了線柵偏振片行業的技術創新和產業升級。企業和科研機構不斷加大研發投入,致力于開發新型的材料和制備工藝,以提高線柵偏振片的性能、降低成本,并拓展其在更多領域的應用。

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